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Brevetto
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衝撃誘起空気流剥離の抑制
SUPPRESSION OF SHOCK-INDUCED AIRFLOW SEPARATION

Dan J Baruzzini ; Miller Daniel N ; Domel Neal D ; Jeff G Hakes

05 March 2015

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2
Material Type:
Brevetto
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エーロフォイル用能動抽気
AIRFOIL ACTIVE BLEEDING

Dan Baruzzini ; Neal David Domel ; Jeffrey G Hakes ; Miller Daniel N

26 February 2015

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3
Material Type:
Brevetto
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境界層剥離を低減する不均一な縁部パターンを有するパネル
PANEL HAVING NON-UNIFORM EDGE FOR REDUCING BOUNDARY LAYER PEELING

Neal David Domel ; Dan Baruzzini ; Kent W Benner ; Scott Ely Richard ; Miller Daniel N

20 July 2017

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4
Material Type:
Articolo
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Polymers Based on a Novel 1,3-perfluorodioxole for Use as a Soft Polymer Pellicle in 157nm Lithography

Desmarteau, Darry D. ; Lu, Norman ; Zimmerman, Paul ; Miller, Daniel

Journal of Photopolymer Science and Technology, 2004, Vol.17(4), pp.651-653 [Rivista Peer Reviewed]

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5
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Articolo
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New Resin Systems for 157nm Lithography.

Dammel, Ralph R. ; Sakamuri, Raj ; Kudo, Takanori ; Romano, Andrew ; Rhodes, Larry ; Vicari, Richard ; Hacker, Cheryl ; Conley, Will ; Miller, Daniel

Journal of Photopolymer Science and Technology, 2001, Vol.14(4), pp.603-611 [Rivista Peer Reviewed]

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6
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Articolo
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New Strategies for High Resolution Photoresists.

Ober, Christopher K. ; Douki, Katsuji ; Vohra, Vaishali R. ; Kwark, Young-Je ; Liu, Xiang-Qian ; Conley, Will ; Miller, Daniel ; Zimmerman, Paul

Journal of Photopolymer Science and Technology, 2002, Vol.15(4), pp.603-611 [Rivista Peer Reviewed]

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7
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Articolo
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Dissolution Inhibitors for 157 nm Lithography: A Progress Report.

Conley, Will ; Miller, Daniel ; Chambers, Charles ; Trinque, Brian C. ; Osborn, Brian ; Chiba, Takashi ; Zimmerman, Paul ; Dammel, Ralph ; Romano, Andrew ; Willson, C. Grant

Journal of Photopolymer Science and Technology, 2002, Vol.15(4), pp.613-617 [Rivista Peer Reviewed]

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8
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Articolo
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The Design of Resist Materials for 157nm Lithography.

Willson, C. Grant ; Trinque, Brian C. ; Osborn, Brian P. ; Chambers, Charles R. ; Hsieh, Yu-Tsai ; Chiba, Takashi ; Zimmerman, Paul ; Miller, Daniel ; Conley, Willard

Journal of Photopolymer Science and Technology, 2002, Vol.15(4), pp.583-590 [Rivista Peer Reviewed]

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9
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Articolo
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New Fluorinated Resins for 157 nm Lithography Application

Houlihan, Francis ; Romano, Andrew ; Rentkiewicz, David ; Sakamuri, Raj ; Dammel, Ralph R. ; Conley, Will ; Rich, Georgia ; Miller, Daniel ; Rhodes, Larry ; Mcdaniels, Joe ; Chang, Chun

Journal of Photopolymer Science and Technology, 2003, Vol.16(4), pp.581-590 [Rivista Peer Reviewed]

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10
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Articolo
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Effects of Airborne Molecular Contamination on DUV Photoresists.

Dean, Kim R. ; Miller, Daniel A. ; Carpio, Ronald A. ; Petersen, John S. ; Rich, Georgia K.

Journal of Photopolymer Science and Technology, 1997, Vol.10(3), pp.425-443 [Rivista Peer Reviewed]

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